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Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10893/11995

Título : Tasas de difusión y de deposición en un modelo de epitaxia coloidal
Otros títulos: Diffusion and Deposition Rates in a Colloidal Model for Epitaxial Growth
Palabras clave : Crecimiento de monocapas
Suspensiones coloidales
Dinámica molecular
Modelos estocásticos
Fecha de publicación: 24-jul-2018
Resumen: Se estudian las propiedades dinámicas de un modelo de suspensión coloidal bidimensional cuyas partículas son depositadas lentamente sobre un sustrato unidimensional bajo la acción de un campo externo. Una vez que las partículas son depositadas en el sustrato pueden difundirse lateralmente sobre este último. Usando un modelo analítico basado en las ecuaciones de Langevin y de Fokker-Plank se estudia la dinámica de una partícula en la suspensión y sobre el sustrato. En particular, se calculan la tasa de deposición promedio sobre el sustrato, Ƒ, así como también la constante de difusión de las partículas sobre el sustrato, D. Los resultados del modelo analítico propuesto presentan un buen acuerdo con los encontrados usando simulaciones numéricas basadas en dinámica molecular. Este modelo sencillo permite explorar la posibilidad de usar coloides para la formación de estructuras mediante la técnica de crecimiento epitaxial, la cual es relevante en distintos campos de aplicación.
URI: http://hdl.handle.net/10893/11995
Aparece en las colecciones: Vol. 21, No 1, 2017 / Revista de Ciencias

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