Tasas de difusión y de deposición en un modelo de epitaxia coloidal.
| dc.date.accessioned | 2018-07-24T16:16:01Z | |
| dc.date.available | 2018-07-24T16:16:01Z | |
| dc.date.issued | 2018-07-24 | |
| dc.description.abstract | Se estudian las propiedades dinámicas de un modelo de suspensión coloidal bidimensional cuyas partículas son depositadas lentamente sobre un sustrato unidimensional bajo la acción de un campo externo. Una vez que las partículas son depositadas en el sustrato pueden difundirse lateralmente sobre este último. Usando un modelo analítico basado en las ecuaciones de Langevin y de Fokker-Plank se estudia la dinámica de una partícula en la suspensión y sobre el sustrato. En particular, se calculan la tasa de deposición promedio sobre el sustrato, Ƒ, así como también la constante de difusión de las partículas sobre el sustrato, D. Los resultados del modelo analítico propuesto presentan un buen acuerdo con los encontrados usando simulaciones numéricas basadas en dinámica molecular. Este modelo sencillo permite explorar la posibilidad de usar coloides para la formación de estructuras mediante la técnica de crecimiento epitaxial, la cual es relevante en distintos campos de aplicación. | spa |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10893/11995 | |
| dc.language.iso | spa | spa |
| dc.rights.accessrights | info:eu-repo/semantics/openAccess | spa |
| dc.subject | Crecimiento de monocapas | spa |
| dc.subject | Suspensiones coloidales | spa |
| dc.subject | Dinámica molecular | spa |
| dc.subject | Modelos estocásticos | spa |
| dc.title | Tasas de difusión y de deposición en un modelo de epitaxia coloidal. | spa |
| dc.title.alternative | Diffusion and Deposition Rates in a Colloidal Model for Epitaxial Growth. | spa |
| dc.type | Artículo de revista | spa |
| dspace.entity.type | Publication |